一、3D光刻技術(shù)介紹

摩方PµSL是一種微米級(jí)精度的3D光刻技術(shù)，這一技術(shù)利用液態(tài)樹脂在UV光照下的光聚合作用，使用滾刀快 速涂層技術(shù)大大降低每層打印的時(shí)間，并通過打印平臺(tái)三維移動(dòng)逐層累積成型制作出復(fù)雜三維器件。

在三維復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納加工領(lǐng)域，BMF Material團(tuán)隊(duì)擁有超過二十年的科研經(jīng)驗(yàn)，針對(duì)客戶在項(xiàng)目研究中可能出現(xiàn)的工藝和材料難題，我們將持續(xù)提供簡易高效的技術(shù)支持方案。

二、3D光刻技術(shù)功能介紹

*的薄膜滾刀涂層技術(shù)允許更高的打印速度，使打印速度最高提升10倍以上；

能夠處理高達(dá)20000cps的高粘度樹脂，從而生產(chǎn)出耐候性更強(qiáng)、功能更強(qiáng)大的零部件；

能夠打印工業(yè)級(jí)復(fù)合聚合物和陶瓷光敏材料，包括與巴斯夫合作開發(fā)的全新功能工程材料。

三、微納3D打印系統(tǒng)打印材料

通用型

丙烯酸類光敏樹脂，比如HDDA，PEGDA等。

工業(yè)級(jí)復(fù)合聚合物，例如高粘度樹脂、陶瓷漿料等。

個(gè)性化

高強(qiáng)度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物醫(yī)用樹脂等。